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Shenzhen Institute of Information Technology

半导体工艺与器件

Shenzhen Institute of Information Technology via XuetangX

Overview

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        本课程的基本思路主要分三条主线。首先,以半导体物理、半导体器件物理为主线,围绕这条主线介绍晶体结构、能带理论,各种基本器件(PN结、双极型晶体管、MOS管)的基础知识和基本原理,以及各种器件在不同场合的应用。其次,以集成电路工艺为主线,介绍基本的工艺步骤和基本原理,以及如何应用各种工艺技术来实现各种器件和电路。最后,以集成电路为主线,介绍集成电路的分类、性能、影响因素,并介绍基本门电路的结构和工作原理。三条主线是一个有机的整体,是相辅相成的,将理论知识与实践应用结合起来。

本课程预计讲述4章内容,从通俗性和实用性出发,全面介绍微电子科学与工程专业所需学习的各项基本理论和知识。主要内容包括:第1章讲述微电子学的概念,介绍微电子学的地位、发展历史及现状;第2章讲述半导体物理中的晶体结构、能带理论;第3章讲述半导体器件物理知识,包括PN结、双极型晶体管、MOS管等;第4章讲述半导体集成电路制造工艺中的基本工艺步骤,包括氧化、光刻、扩散、金属互连等。

        通过本课程的学习,同学们可以:

        · 了解微电子与集成电路领域基本概念和发展。

        · 认识晶体结构、半导体物理方面的基本概念。

        · 掌握半导体器件物理中的基本概念和工作原理。

        · 了解基本的半导体集成电路制造工艺。

        · 了解基本的集成电路概念、分类和发展。

        · 了解新技术和发展趋势。

        · 对专业课程形成总体和全局概念:物理→器件→工艺→IC→新型微电子技术。


Syllabus

  • 第1章 概论
    • 1.1 微电学的概念
    • 1.2 微电子学的战略地位
    • 1.3 微电子学的发展历史
    • 1.4 集成电路的分类
    • 1.5 微电子产业的发展现状
    • 1.6 微电子技术的发展
  • 第2章 半导体物理基础
    • 2.1 半导体材料及其基本性质
    • 2.2 硅的晶格结构
    • 2.3 硅晶体中的能带理论
    • 2.4 半导体中的能带理论
    • 2.5 半导体的掺杂
    • 2.6 费米分布函数
    • 2.7 载流子的运输
  • 第3章 半导体器件物理基础
    • 3.1 PN结
    • 3.2 双极型晶体管
    • 3.3 场效应晶体管
  • 第4章 半导体集成电路制造工艺
    • 4.1 单晶生长及衬底制备
    • 4.2 光刻
    • 4.3 刻蚀
    • 4.4 掺杂技术
    • 4.5 制膜技术
    • 4.6 接触与互连
    • 4.7 隔离技术
    • 4.8 封装技术
    • 4.9 主要器件和工艺流程示例
  • *重点难点动画解析*
    • *模块化实训案例*
      • *测试试卷*
        • *课程标准+教案*

          Taught by

          Mona

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